超高真空（Ultra High Vacuum，UHV）是指压力低于1×10-8mbar的真空状态。在这种环境下，气体分子的数量非常**，平均自由程约数十公里，处于分子流状态，几乎所有分子相互作用都发生在腔体的各个表面上。典型的固体表面原子密度约为1015cm-2，假设碰撞到表面上的分子*全被吸附，在10-6mbar的真空压力下形成分子单层仅需几秒，而在10-10mbar或10-11mbar真空下时，形成单分子层的时间则达几小时到几十小时，因此，洁净的材料表面都必须在超高真空环境下获得和保持。
UHV技术的应用广泛覆盖多个领域，包括材料科学、表面科学、半导体工业和光学研究等。在超高真空的环境中，研究者能够更加准确地深入研究材料的特性、探索表面化学反应和微观结构，同时应用于制造高性能电子器件等前沿领域。
超高真空技术主要涉及超高真空的获取、测量和维持，以及UHV条件下的运动。锦正茂科技已成功掌握超高真空状态下涉及的一系列精密而复杂的技术，包括高效的真空泵系统、特殊材料的选择和处理、精密的真空腔室设计，以及准确的真空测量和控制系统。这些技术的综合运用使得超高真空环境不仅能够提供极低的气体分子干扰，同时能够稳定地维持这种高度真空状态。
