霍尔效应测试仪，是用于测量半导体材料的载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等重要参数，而这些参数是了解半导体材料电学特性必须预先掌控的，因此是理解和研究半导体器件和半导体材料电学特性必*的工具。该仪器为性能稳定、功能*、性价比高的霍尔效应仪,在国内高校、研究所及半导体业界拥有广泛的用户和知*度。仪器轻巧方便，易于携带，主要用于量测电子材料之重要特性参数，如载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等，薄膜或固体材料均可。您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺...

锦正茂硅二极管温度传感器DT640系列硅二极管温度传感器选用了专门适用于低温温度测量的硅二极管。相比普通硅二极管，具有重复性好、离散性小、精度更高温度范围更宽、低温下电压相对高而易于测量等特点。所有此款温度计都较好地遵循一个电压-温度（V-T）曲线，因而具有更好的可互换性。很多应用中都不需要单独的标定。锦正茂硅二极管温度传感器DT64-BC型裸片温度计，相比市场上的其它温度计，具有尺寸更小、热容更小、响应时间更短的特点。在尺寸、热容以及响应时间有特殊要求的应用中具有*的优势。...

整数量子霍尔效应的机制已经基本清楚，而仍有一些科学家，如冯·克利青和纽约州立大学石溪分校的V·J·Goldman，还在做一些分数量子效应的研究。一些理论学家指出分数量子霍尔效应中的某些平台可以构成非阿贝尔态（Non-AbelianStates），这可以成为搭建拓扑量子计算机的基础。石墨烯中的量子霍尔效应与一般的量子霍尔行为大不相同，称为异常量子霍尔效应(AnomalousQuantumHallEffect)。此外，Hirsh、张首晟等提出自旋量子霍尔效应的概念,与之相关的实验...

概述：真空热压烧结炉是将真空/气氛、热压成型、高温烧结结合在一起设备，适用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高温热成型。如应用于透明陶瓷、工业陶瓷等金属以及由难容金属组成的合金材料的真空烧结以及陶瓷材料碳化硅和氮化硅的高温烧结，也可用于粉末和压坯在低于主要组分熔点的温度下的热处理，目的在于通过颗粒间的冶金结合以提高其强度。您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！主要结构介绍：真空热压炉是由炉体、炉盖、加热与保温及测温系统、真空系统、充气系...

概述：可测量磁性材料的基本磁性能(如磁化曲线，磁滞回线，退磁曲线，升温曲线、升/降温曲线、降温曲线、温度随时间的变化等)，得到相应的各种磁学参数(如饱和磁化强度，剩余磁化强度，矫顽力，磁能积，居里温度，磁导率(包括初始磁导率)等)，可测量粉末、颗粒、片状、块状等磁性材料。可原位测量磁性材料从液氮温区至室温或室温至500℃温区的磁性能随温度的变化曲线。您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！技术指标：1、测量磁矩范围(磁极间距30mm时...

公司研发的液氮型低温恒温器，利用液氮作为降温媒介，标准恒温器可实现快速降温至液氮温度（约20min），其工作原理是在恒温器内部液氮腔内装入液氮，通过调整控温塞与冷指的间隙来保持冷指的漏热稳定在一定值上，再通过锦正茂科技有限公司自主研发的控温仪，通过其内部的模糊控制系统，调整加热输出功率，使恒温器的温度在80K-600K之间快速变温，并能快速的稳定到某一设定值上，另外，恒温器如果加装降压选件，可将恒温器的温度降低至65K，并稳定在65K上。为满足更多客户的需求，公司还研发有连续...

液氮恒温器-光学北京锦正茂科技有限公司锦正茂液氮恒温器-光学公司研发的液氮型低温恒温器，利用液氮作为降温媒介，标准恒温器可实现快速降温至液氮温度（约20min），其工作原理是在恒温器内部液氮腔内装入液氮，通过调整控温塞与冷指的间隙来保持冷指的漏热稳定在一定值上，再通过锦正茂科技有限公司自主研发的控温仪，通过其内部的模糊控制系统，调整加热输出功率，使恒温器的温度在80K-600K之间快速变温，并能快速的稳定到某一设定值上，另外，恒温器如果加装降压选件，可将恒温器的温度降低至65...

产品概述：锦正茂一维亥姆霍兹线圈典型的单轴亥姆霍兹线圈是具有相同线圈匝数，相同线圈绕制方式，线圈半径等于线圈间距的两个线圈组成的。亥姆霍兹线圈一般用来产生体积比较大、均匀度比较高，但磁场值比较弱的磁场。用户可以利用这个磁场来完成各种实验，亥姆霍兹线圈可根据不同的应用产生静态DC或AC磁场。主要用途：地球磁场的抵消、判定磁屏蔽效应、电子设备的磁化系数、磁通门计和航海设备的校准、生物磁场的研究及与磁通计配合使用检测永磁体特性。适用于各研究所，高等院校及企业做物质磁性或检测实验，应...