真空腔体在半导体制造中扮演关键角色，为光刻、薄膜沉积、离子注入等精密工艺提供纯净、稳定的真空环境。其加工制造涵盖材料选择、精密加工、表面处理等环节，当前面临材料加工难度、密封性能控制等技术挑战。真空腔体的制作材料选择需要综合考虑强度、放气率、耐腐蚀性以及特定环境适应性等因素。金属材料中，不锈钢凭借优异的耐腐蚀性和低放气率成为超高真空系统的*选，常用于半导体刻蚀腔体和粒子加速器；铝合金则以轻量化和高导热性见长，适用于卫星推进剂储罐等需要减轻重量的场合；钛合金因其无磁性和耐高温特...

晶圆强磁场退火热处理装备可以将被测样品同时置于强磁场、高真空、高温、气氛环境中，同时也可以单独或任意组合这三种实验环境，满足不同样品在不同环境下的测试要求。适应范围：高温、高真空、强磁场环境中加热或去磁的各种磁性材料。性能指标参数磁体轴线上，纵向磁场分布详见附件电磁设计数据磁体均匀区纵向磁场均匀度小于0.1%温孔轴心和磁场轴心偏差（包括平移和倾斜）小于0.2mm励磁电流小于120A，轴心磁场达到12T常温到超导工作时间应小于48小时。安*保护高温报警：设备发出警报后自动切断输...

概述晶圆强磁场退火热处理装备可以将被测样品同时置于强磁场、高真空、高温、气氛环境中，同时也可以单独或任意组合这三种实验环境，满足不同样品在不同环境下的测试要求。适应范围：高温、高真空、强磁场环境中加热或去磁的各种磁性材料。设备原理北京锦正茂科技有限公司生产的高温真空磁场加热炉系统，是有升温高温炉，高温炉加热电源，Labview控制软件（选配），超导磁体，高精度电源，分子泵组，水冷机组共同组成的一套反馈调节的加热系统。该高温磁场加热炉系统是由分子泵组中的机械泵（干泵）先对真空腔...

北京锦正茂科技有限公司生产的高温真空磁场加热炉系统，是由升温高温炉，高温炉加热电源，Labview控制软件，电磁铁，高精度双极性恒温电源，分子泵组，水冷机组共同组成的一套反馈调节的加热系统。该高温磁场加热炉系统是由分子泵组中的机械泵（干泵）先对真空腔体（样品腔）进行粗抽，达到可以开启分子泵的极限真空时，在开启分子泵进行高真空的抽取，达到客户所需的真空度。打开软件，通过在软件中输入需要的磁场值和温度值，通过闭循环反馈调节，使设备内样品的温度自动控制并稳定在某一个温度值，软件可以...

主要技术指标：※温度范围：室温—350℃（硅片上边温度）※控温精度：±1℃※温度分辨率：0.1℃※样品尺寸：8英寸（需要有固定夹具，还有10mmx10mm,20mmx20mm样品也需要考虑单独固定）※样品温度：精圆上单独放一个温度计，测量精圆表面温度（温度计封装在镀金无氧铜块内，铜块与精圆接触测温，使用比较细的软线方便移动与测量）※磁场强度：＞1000oe（样品测试处磁场）※持续工作时间：5小时※样品台尺寸：210mm（根据实际可更改，不小于8英寸），※样品台采...

锦正茂高低温真空探针台可进行真空环境下的高低温测试（4.2K~500K），可升级加载磁场，低温防辐射屏设计，样品台采用高纯度无氧铜制作，温度均匀性更好，温度传感器采用有着良好稳定性和重复性的PT100或者标定过的硅二极管作为测温装置，支持光纤光谱特性测试，兼容高倍率金相显微镜，可微调移动，器件的高频特性(支持频率上达67GHz)，探针热沉设计，LD/LED/PD的光强/波长测试，自动流量控制，材料/器件的IV/CV特性测试等。高低温真空探针台应用于高低温真空环境下的芯片测试，...

探针台探针与样品的接触方式根据应用场景及设备类型的不同，主要可分为以下几种形式：机械定位接触式通过X/Y/Z轴旋钮或移动手柄手动调节探针座位置，逐步将探针*端移动至待测点上方，再通过Z轴下压完成接触。此方式需结合显微镜观察，确保探针与样品表面精准对齐。在显微镜低倍物镜下定位样品后，切换高倍物镜微调待测点位置，再通过探针座三轴微调旋钮实现接触。利用机械手控制探针臂的移动，将探针*端**定位至半导体器件的Pad或晶圆测试点，通过压板下降建立电气连接。真空吸附固定式样品通过真空卡盘...

真空探针台是用于半导体晶圆测试的专用设备，通过构建高真空或特定温控环境实现芯片电参数精确测量。其核心功能为连接测试机与晶圆介质，通过微米级定位系统完成裸芯片电性测试及功能验证，在集成电路可靠性检测和失效分析中具有关键作用。该设备由真空腔体、精密定位系统、探针臂组件和环境控制系统构成，可实现-196℃至+675K宽温域测试。应用领域涵盖I/C-V测试、RF/PCB测试、光电器件分析等半导体测试全流程，并扩展至超导材料、热电器件等新型材料研究。在选购真空探针台的时候我们需要注意的...